离子轰击在玻璃蒸发镀膜中的应用

doi:10.11835/j.issn.1674-4764.1995.03.017

首页 > 过刊浏览>1995年第17卷第3期 >108-110. DOI:10.11835/j.issn.1674-4764.1995.03.017

离子轰击在玻璃蒸发镀膜中的应用
DOI:
                        10.11835/j.issn.1674-4764.1995.03.017
                    
CSTR:
                        [cstr]
                    
作者:
                        
                        
                    
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中图分类号:TQ171.72
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THE USE OF ION BOMBARDMENT IN DEPOSITION OF EVAPORATINC THIN METAL FILMS ON GLASS

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提出了在蒸发镀膜玻璃中引入离子轰击的方法，阐述了蒸发镀膜过程中离子轰击的工作原理，并运用断面电子描描显微观察，评价了离子轰击对薄膜附着性能的影响。

Abstract:

This paper presents a new method in the producton of glass deposition byevaporation,and the principle of ion bonibardment.The effect of ion bombardment to the filmadhesion is estimated by the observation of cross-sectiun sweep electron micrcocope.

参考文献

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引用本文

程正勇.离子轰击在玻璃蒸发镀膜中的应用[J].土木与环境工程学报（中英文）,1995,17(3):108-110. Cheng Zhengyong. THE USE OF ION BOMBARDMENT IN DEPOSITION OF EVAPORATINC THIN METAL FILMS ON GLASS[J]. JOURNAL OF CIVIL AND ENVIRONMENTAL ENGINEERING,1995,17(3):108-110.10.11835/j. issn.1674-4764.1995.03.017

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