光助芬顿法降解印制电路板脱膜废液
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X703.1

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Degradation of PCB Waste Stripping Liquid Using UV/Fenton
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    摘要:

    研究表明,采用UV/Fenton均相光催化氧化体系降解印制电路板脱膜废液效果好。在H202用量为1倍理论药量,Fe^2+:H2O2(摩尔比)=1:20,光照时间为80min,脱膜废液COD去除率可达80%。光助芬顿体系降解脱膜废液的诸多影响因素中,重要性次序依次为H2O2投药比〉FeSO4/H2O2的比值〉光照时间。

    Abstract:

    The study shows that there will be a good effect to degrade printed circuit board(PCB) waste stripping liquid using UV/Fenton homogeneous photochemical catalysis system.The removal rate of COD could reach 80% at the conditions with double dose of H_2O_2,1:20 mol ratio of Fe~(2+):H_2O_2 and 80min hydraulic retention time(HRT).In all influential factors the H_2O_2 dosing ratio is the most important by order,then follows the ratio of FeSO_4/H_2O_2,and at last the illumination time.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

郭新超,金奇庭,王艳芳,孙长顺,薛峰.光助芬顿法降解印制电路板脱膜废液[J].土木与环境工程学报(中英文),2005,27(5):91-95. GUO Xin-chao~,JIN Qi-ting~,WANG Yan-fang~,SUN Chang-shun~,XUE feng~. Degradation of PCB Waste Stripping Liquid Using UV/Fenton[J]. JOURNAL OF CIVIL AND ENVIRONMENTAL ENGINEERING,2005,27(5):91-95.10.11835/j. issn.1674-4764.2005.05.021

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  • 最后修改日期:2005-04-15
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