本文用椭圆法、TEM和XPS研究了恒电流条件下形成的钛阳极氧化膜,讨论了0～20V(SCE)范围内模的生长、组成和膜的击穿。实验结果表明膜为单层,膜的生长速率在0.02、0.05、0.1、1、2.5mA/cm~2时分别为2.65、2.5、2.5、2.2、2.0nm/V。求得膜的密度为3.19/cm~3,膜组成为TiO_2(H_2O)_(0.9)。发现在实验的极化电流密度范围内膜的击穿电位与电流密度的对数式正比。