集成电路基板研磨表面误差自动修正技术
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TN405 TN470.5

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重庆市应用基础研究基金


Research on Error Automatic Revised Method of LSI Wafer Honing Process
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    摘要:

    针对现有LSI基板研磨过程中,表面误差修正中存在的问题,提出了一种表面误差自动修正系统。该系统采用激光技术测量研磨中的基板表面状况;并以此为基础建立加工状况数据库,同时采用楔形机构对基板表面误差修正控制。

    Abstract:

    A new automatic revised method of wafer profile error which uses CCD measuring error,sets up machining data base and carries out a wedge structure for stepless compensating error in honing process is described.Using this technology,a high precision LSI wafers can be obtained.

    参考文献
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    引证文献
引用本文

郭隐彪 庄司克雄.集成电路基板研磨表面误差自动修正技术[J].重庆大学学报,1999,22(2):60-62.

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