钴离子注入对Ni(OH)2/NiOOH电极行为的影响
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O646.5

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国家自然科学基金


Effect of Cobalt Ion Implantation on Behavior of Ni(OH)_2/NiOOH Electrode
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    摘要:

    用波长扫描现场椭圆振光谱方法和电化学实验技术研究Ni(OH)2/NiOOH电极上的电化学反应,用离子注入技术将钴引入到镍电级表面层中,可提高Ni(OH)2/NiOOH电极的充电效率。拟合椭圆法实验数据确定了充,放电过程中表面膜的转化模型,所得结果表明:在钴离子注入之后,光学模型保持不变,但Ni(OH)2/NiOOH电极的充电效率可得到提高。

    Abstract:

    Clectrochemial reaction occurred on Ni(OH)2/NiOOH electrode was studied with electrochemical method and ellipsometry with wavelength sweep.Cobalt was implanted intosurface of nickel with fonim plantation technology to improve charge efficiency of the electrode. With fitting ellipemetric experimental data,transformation model of the surface film was obtainedduring charge and discharge. Implantation of cobalt did not affect the model,but made charge effi-ciency be increased.

    参考文献
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    引证文献
引用本文

张胜涛 黄宗卿.钴离子注入对Ni(OH)2/NiOOH电极行为的影响[J].重庆大学学报,1994,17(6):74-77.

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