CVD金刚石薄膜中内应力张/压性质预测的研究
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O484.5

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国家自然科学基金


Study On The Prediction Of Tensile/Compressive Internal Stress In CVD Diamond Films
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    对大量实验测量出的甲烷浓度和衬底温度分别在单因素变化时,金刚石薄膜内应力的变化规律进行了归纳。在此基础上,利用材料科学与相图的思想,对任意给定的甲烷浓度和衬底温度条件下制备的金刚石膜中内应力处于张应力还是压应力的情况进行了分析,绘制出金刚石膜的“内应力状态图”。结果表明:利用“内应力状态图”可以预测内应力的张/压性质,预测分析结果与实验结果一致。

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方亮 王万录. CVD金刚石薄膜中内应力张/压性质预测的研究[J].重庆大学学报,1999,22(3):112-116.

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